中金:国产高端IC光刻胶突破在望

作者: 中金研究 2022-01-11 08:09:58
中金公司认为,国产高端IC光刻胶突破在望。

智通财经APP获悉,中金公司发布研究报告称,光刻胶是现代微纳制造工艺的关键材料,广泛应用于集成电路、面板、PCB、LED等制造领域。光刻胶技术难度大、壁垒高,市场长期由少数日美厂商主导。近年来,随着市场、资金、人才、政策等多方面因素驱动,国内IC光刻胶及原材料厂商日益增多,中金公司认为,国产高端IC光刻胶突破在望。

中金公司主要观点如下:

光刻胶为半导体制造中的关键耗材,合成技术难度大、壁垒高。光刻工艺为半导体制造中的核心工艺,光刻胶为光刻工艺的关键耗材,决定芯片制造的关键尺寸。根据光源波长分类,光刻胶可分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV 6大品类,波长越短通常可制造的最小尺寸越小,技术难度越高。光刻胶的壁垒主要在于:1)配方和经验的长期积累,2)原材料的稳定供给;3)客户黏性和认证周期长;4)前期资金和人才投入大。

全球光刻胶市场规模大,IC光刻胶中EUV和KrF增速高。根据Research And Markets数据,2020年全球光刻胶市场为87亿美元。根据Techcet数据,2020年全球IC光刻胶市场约18.33亿美元,预计2025年达24.66亿美元,5年CAGR为6.11%;受益于先进逻辑制程(<7nm)及DRAM(1α nm)的应用,EUV光刻胶市场规模有望由2020年的0.27亿美元迅速增长至2025年的2.26亿美元;随着堆叠层数的提升,KrF光刻胶在3D NAND制程中的使用量同步增加,市场规模有望由2020年的6.12亿美元提升至2025年的9.1亿美元。

日美企业主导光刻胶市场,国内投入日益加大,有望改变核心原材料和高端IC光刻胶的全球格局。据Research And Markets的数据,2020年全球前五大光刻胶供应商占据全球87%的市场份额,行业集中度高。国内光刻胶产业发展不均衡,现状是厂商多而不强。光刻胶方面,国内供应商主要集中于PCB/面板/LED领域和g/i线等中低端市场;光刻胶原材料方面,成本占比高的树脂和光引发剂等对海外厂商依赖度高。随着国内半导体产业快速发展以及对国产核心半导体材料的重视,国内部分公司在KrF、ArF等高端IC光刻胶领域不断突破,我们认为,将来有望改变全球光刻胶产业供给格局。

本文编选自“中金点睛”,作者:李学来,贾雄伟,江磊;智通财经编辑:韩永昌。

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