不用EUV光刻机也能搞定，中芯国际(00981)7nm工艺细节曝光

本文来自微信公众号“芯智讯”

2月14日上午，在中芯国际(00981)2019第四季度电话财报会议中，中芯国际联席CEO梁孟松博士和赵海军博士介绍了近期事件对于公司的影响，并介绍了新的N+1和N+2工艺的进展情况。

根据中芯国际昨天公布的2019年第四季度财报显示，该季度营收位8.39亿美元，相比去年同期的7.88亿美元增长了6%，环比则增长了2.8%;毛利为1.99亿美元，相比去年同期的1.34亿美元几乎增长了50%。

据了解，中芯国际原定的2019年全年增长率目标是达到20～21%，但由于产能利用率高、成本控制得好，增长率高于预期。中国地区的业务增长尤为强劲，第四季度来自中国地区的营收环比增长11%，同比增长了21%。

对于新的财年，赵海军博士指出，受近期事件的影响，对业务和收入产生负面是肯定的事情。这个时候所有人都不能对疫情带来的整体影响有一个清晰的了解，但基于客户反馈，中芯国际第一季度的收入和毛利率都会很高，没有任何影响。第二季度影响将会慢慢显现，不过到第三季度，中芯国际有额外的能力、额外的技术平台，可会补偿第二季度的损失。

在工艺方面，财报显示2019年四季度量产的14nm工艺，已经为中芯国际带来了768万美元的营收，不过在整个四季度的营收占比仅不到1%。而中芯国际14nm工艺目前所面临的主要问题还是产能，目前中芯国际14nm工艺主要是在上海的中芯南方12英寸晶圆厂生产，去年底也就生产了1000片晶圆左右，产量很低。

不过，根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法，今年3月14nm月产能将达到4000片，7月将达到9000片，12月将达到15000片。

另外，中芯国际还将推出基于14nm改良的12nm工艺，据介绍，该工艺比14nm晶体管尺寸进一步缩微，功耗降低20%、性能提升10%，错误率降低20%，目前已经进入了客户导入阶段。

不过，即便是12nm工艺，也与目前台积电、三星最先进的5nm工艺相比，仍然有着2-3代的技术差距。因此，中芯国际也在加快研发更为先进的工艺制程。

在这次的财报会议上，梁孟松博士也首次公开了中芯国际的N+1、N+2工艺的情况。

梁孟松博士表示，中芯国际的N+1工艺和现有的14nm工艺相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。

虽然梁孟松博士并未明确这个N+1工艺是10nm工艺还是7nm工艺，但是从上面公布的逻辑米娜及缩小的数据来看，很可能是7nm工艺。而此前业内也有消息称中芯国际将跳过10nm工艺，直接研发7nm工艺。

不过，梁孟松博士也表示，N+1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似，但性能不如，业界标准是提升35%，所以中芯国际的N+1工艺主要面向低功耗应用的。

而在N+1之后，中芯国际还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于性能及成本，N+2显然是面向高性能的，成本也会增加。

至于推出的时间，在此前的财报当中，梁孟松博士有提到会在2020年底开始试验产能，而真正的量产可能要等到2021年了。

对于此前备受关注的中芯国际向ASML订购的EUV光刻机，由于“出口许可过期”交付被中止一事，中芯国际官方并未回应，不过梁孟松博士表示，在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会用EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。

显然，中芯国际的7nm工艺的路线规划来看，与此前台积电的路线差不多。台积电也是一开始选择原有的DUV工艺来开发7nm，去年才开始推出基于EUV工艺的7nm+，不过光罩层数也比较少，而5nm节点才是充分利用EUV光刻工艺的，可以达到了14层EUV光罩。