普达特科技(00650)取得29台新设备订单 包含单片清洗设备与炉管LPCVD设备

智通财经APP讯，普达特科技(00650)发布公告，随着本公司各类半导体设备平台持续交付客户与通过验证，本公司已积累大量的量产经验并获得行业认可，从而使本公司具备了取得更大批量正式订单的有利条件。自该公告日期起，本公司共取得了29台新设备订单，其中14台为半导体设备新订单，包含单片清洗设备与炉管LPCVD设备。该等设备系统主要应用于客户的高端特色工艺半导体与第三代半导体产线，覆盖晶圆前后段工艺应用按机台数从多到少依次为：

1)OCTOPUS与OCTOPUS-SP单片清洗设备，用于12寸晶圆背面清洗、Solvent清洗、RCA清洗等工艺，其中含四台硫酸清洗设备;

2)CUBE单片清洗设备，用于背面清洗与刻蚀工艺;及

3)炉管LPCVD设备，用于12寸SiN薄膜沉积工艺。

该等设备订单均为正式订单，暂未确认收入。本公司将在客户通过验证后确认收入。

本公司自主研发的半导体清洗与炉管LPCVD/ALD设备平台，均可覆盖成熟制程与先进逻辑、存储制程，拥有对标国际领先设备厂商的技术性能与行业领先的设备生产力。其中，半导体清洗设备系列平台，以单片清洗设备为核心平台，覆盖Solvent清洗、晶圆背面清洗、RCA清洗等行业主流湿法清洗应用。同时，本公司进一步突破技术壁垒，开发了190℃先进高温硫酸清洗设备并成功出货。本公司的半导体炉管设备平台，拥有LPCVD与ALD两大先进设备产品线，针对12英寸晶圆SiN、Poly、TEOS等关键薄膜沉积工艺。此外，本公司已完成开发应用于14/7nm节点高性能介质层薄膜沉积的Low-K ALD SiOCN炉管设备，该细分领域目前仍由海外设备商垄断。

未来，本公司将继续发挥技术优势，积极拓展市场，以期获取更多批量化正式订单并导入更多行业头部客户，以推动其半导体设备业务快速增长，并提升业务毛利率，促进本公司的持续有机发展。